Nanoscale
21 May 2020
Láser plasmónico ultrarrápido desde una interfaz metal/semiconductor
Jian Wang,‡ab Xiaohao Jia,‡cd Zhaotong Wang,e Weilong Liu,f Xiaojun Zhu,f Zhitao Huang,cd Haichao Yu,g Qingxin Yang,f Ye Sun,e Zhijie Wang,*cd Shengchun Qu,cd Jie Lin,*ab Peng Jin*ab and Zhanguo Wangcd
a. Centro de Ingeniería de Instrumentos Optoelectrónicos de Ultraprecisión, Instituto de Tecnología de Harbin, Harbin 150080, China
b. Laboratorio Clave de Fabricación de Microsistemas y Microestructuras (Instituto de Tecnología de Harbin), Ministerio de Educación, Harbin 150080, China
c. Laboratorio Clave de Ciencia de Materiales Semiconductores y Laboratorio Clave de Pekín de Materiales Semiconductores de Baja Dimensión y Dispositivos, Instituto de Semiconductores, Academia de Ciencias de China, Pekín 100083, China
d. Centro de Ciencia de Materiales e Ingeniería Optoelectrónica, Universidad de la Academia de Ciencias de China, Pekín 100049, China
e. Escuela de Ciencia e Ingeniería de Instrumentación, Instituto de Tecnología de Harbin, Harbin 150080, China
f. Departamento de Física, Instituto de Tecnología de Harbin, Harbin 150080, China
g. Instituto de Suzhou de Nanotecnología y Nanobiónica, Academia de Ciencias de China, Suzhou 215125, China
‡ Estos dos autores contribuyeron por igual a este trabajo.
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